题目：集成电路制造中的光刻、测量和制程控制
地点：雅各楼116会议室
时间：11月13日上午9点
欢迎各位师生踊跃参加！
摘要
在现代集成电路制造中，每一个器件的加工都需要通过几十道工艺，其中光刻是最关键的工艺。光刻是通过光学系统，将掩模板上的结构成像在晶圆上，光刻工艺所能实现的精度决定了器件微加工的最小尺寸。在集成电路的制程中，随着电子器件的尺寸逐渐缩小，加工精度（器件模块的尺寸，模块之间对准，加工的缺陷等）对产品良率的影响日益增大。为了有效的控制加工精度，快速精准的实时测量和对于制程的有效控制优化成为了非常重要的研究课题。
本讲座会以目前世界上最先进的光刻机设备企业，荷兰阿斯麦公司的技术研发为主线，详细介绍目前先进深紫外、极紫外光刻机的原理、性能和发展；介绍纳米尺度光学测量的原理和在制程中的应用；介绍制程控制和优化技术的原理和应用，以及这项技术对于中国半导体产业发展的重要意义。
个人简介
宋毅博士，2005年毕业于南京大学物理系，2008年在北京大学物理系现代光学研究所取得硕士学位。随后在瑞典皇家工学院进行纳米光学器件的设计、加工和表征的研究，并于2011年取得博士学位。2011年在比利时校际微电子中心IMEC担任研究员职位，从事光刻和纳米尺度测量的研究。2013年至今在荷兰ASML公司担任设计工程师、项目经理等职位，从事集成光刻工艺、纳米尺度光学测量、集成电路制程控制系统等研究工作，并且具有丰富的研究成果产业化的经验。其研究成果以第一作者和共同作者身份在Optics Express, Optics Letter, Appl. Phys. Lett. 等国际期刊会议上发表SCI论文7篇，EI论文5篇（200余次引用）；公司内部技术报告和客户报告数十篇。
