1、设备参数

高真空电阻蒸发镀膜机：尺寸约400×400×H450mm；最大可镀基片面积：120×120mm;设备供电总功率≥6kW，380V。

2、简介

热蒸发镀膜是一种物理气相沉积技术。一般是在高真空条件下加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。多种类型的材料都可以用于热蒸发沉积包括金属、有机小分子以及多种无机化合物。

3、功能(应用)

蒸发镀膜机的主要功能在于实现金属、有机及无机化合物材料热蒸发-沉积镀膜。其核心部件包括真空系统、热蒸发及其控制系统。